研究会一覧
MEETINGS
第9回研究会
平成2年4月27日(金) 東京工業大学
プログラム |
パルスプラズマCVD法によるSi系アモルファス半導体の形成 |
(株)富士電機総合研究所電子デバイス研究所 吉田隆、市川幸美、酒井博 |
プラズマ技術と接着 |
(株)ブリヂストン研究開発第二本部 内藤壽夫、吉川雅人、草野行弘、斉藤伸二、秋山節夫 |
熱プラズマによるダイヤモンド膜の合成 |
科学技術庁無機材質研究所 松本精一郎 |