委員紹介

MEMBERS

九州大学

1. 大口径ECRプラズマ源の開発：
   次世代半導体エッチング用ECRプラズマ源の提案。
2. 大面積超高周波プラズマ源の開発：
   薄膜シリコンなどの大面積薄膜作製用超高周波プラズマ源の提案。
3. プローブによる負イオンプラズマ計測：
   プローブを用いた簡便な負イオン計測法の提案。

1. Y. Kawai et al.,Vacuum, vol. 84 (2010) 1381–1384
2. T. Nishimiya et al., Thin Solid Films, vol.519 (2011) 6931 
3. T. Yamane et al., Contribution to Plasma Physics, vol.53, (2013) 588
4. K. Ogiwara et al., Thin Solid Films, vol. 547,(2013) 132
5. J. Y. Zhang et al., Plasma Process & Polymers, vol.11 (2014) 545